Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures (2010)
Gollub, Alexandre Henrique; Carvalho, Daniel Orquiza de 
; Paiva, Thiago Costa de ; Alayo Chávez, Marco Isaías
Source: Physica Status Solidi C. Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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ABNT
GOLLUB, Alexandre Henrique et al. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solidi C, v. 7, n. 3/4, p. 964-967, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889. Acesso em: 13 maio 2024.APA
Gollub, A. H., Carvalho, D. O. de, Paiva, T. C. de, & Alayo Chávez, M. I. (2010). Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solidi C, 7( 3/4), 964-967. doi:10.1002/pssc.200982889NLM
Gollub AH, Carvalho DO de, Paiva TC de, Alayo Chávez MI. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures [Internet]. Physica Status Solidi C. 2010 ; 7( 3/4): 964-967.[citado 2024 maio 13 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889Vancouver
Gollub AH, Carvalho DO de, Paiva TC de, Alayo Chávez MI. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures [Internet]. Physica Status Solidi C. 2010 ; 7( 3/4): 964-967.[citado 2024 maio 13 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889
